Resumo Trabalho

LIGAÇÕES QUÍMICAS EM SISTEMAS MOLECULARES: O RECOBRIMENTO EM ORGANOMETÁLICOS E ADUTOS DE LEWIS

Autor(es): CARLOS VITAL DOS SANTOS JÚNIOR, EWERTON MATIAS DE LIMA e orientado por RENALDO TENÓRIO DE MOURA JÚNIOR

Este trabalho reporta a aplicação do modelo de recobrimento da ligação química, desenvolvido em nosso grupo, em sistemas moleculares com variações sistemáticas da situação eletrônica das ligações químicas. Os sistemas estudados são os compostos organometálicos isoeletrônicos do tipo [M(CO)6]n com M = Sc...Zn e n ajustado para manter o número de elétrons constante na série. O outro sistema estudado são os pares ácido-base de Lewis do tipo X3B–:B(base), variando o halogênio X=F, Cl, Br e a base B=NR3, OR2. Os cálculos usaram a Teoria do Funcional da Densidade, utilizando-se os funcionais B3LYP e wB97X-D e o conjunto de funções de base consistentes com a correlação (aug-cc-pVnZ, n=D, T, Q) incrementadas com funções difusas. O modelo de recobrimento da ligação química foi utilizado a partir de orbitais localizados pelo método de Pipek-Mezey. Os resultados indicam que o modelo de recobrimento é sensível ao efeito de retrodoação nos compostos organometálicos. Nos pares ácido-base, a polarizabilidade de recobrimento segue a tendência da capacidade doadora de elétrons dos grupos substituintes, indicando que ligações mais covalentes ocorrem em sistemas com substituintes mais doadores de carga. Os resultados indicam, de forma geral, que o modelo de recobrimento é sensível às situações eletrônicas das diferentes ligações químicas estudadas.

Veja o artigo completo: PDF